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電解池和配件/RDE旋(xuan)轉圓盤電極(ji)(ji)/RRDE選(xuan)裝環盤電極(ji)(ji)/腐蝕電解池/平板(ban)電解池/金片涂布器/VA663極(ji)(ji)譜(pu)工作臺/EQCM石英晶體微天(tian)平
主要應用領域
- 電分析;
- 腐蝕;
- 儲能設備(燃料電池(chi)、電池(chi)、太陽能光伏電池(chi)、超級電容器等);
- 電(dian)鍍、電(dian)解、電(dian)合成(cheng);
- 生物(wu)傳感器;
- 微納米(mi)器件;
- 光(guang)譜電化學等。
主要技術參數
支持的電極體系 | 2、3、4電極 |
掃描電位范圍 | ±10V,可擴展至±30V |
輸出電壓 | ±30V |
輸出電流 | ±2A (可擴展至10A/20A) |
電流范圍 | 1A、100mA、10mA、1mA、100μA,10μA、1μA、100nA、10nA共9檔,自動選擇電流范圍、可擴展至100pA (ECD) |
CV掃描速率 | 0.1μV-250V/s (可擴展至250KV/s,SCAN250模塊) |
取樣頻率 | 50kHz (可擴展至10MHz,ADC10M模塊) |
恒電位儀帶寬 | >1MHz |
控制軟件 | GPES/FRA或NOVA |
電化學技術 | 直流技術、交流伏安、交流阻抗(FRA模塊) |
特別功能 | 可配置為動態iR補償 |
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